掩膜版除膠難題解決方案_替代IPA/丙酮的環保清洗劑-羽杰科技
? ? ? ?羽杰科技研發生產的光學掩膜版除膠清洗劑 MLJ-2508D 是一款 專為光學掩膜版清除光刻膠，高精密光學及半導體行業設計的環保型 清洗劑。產品采用創新配方，摒棄傳統清洗劑中常見的丙酮、異丙醇、 強酸強堿等有害成分，清洗劑萬級無塵車間生產，經過微米級過濾， 產品品質佳無污染離子、雜質影響。?
? ? ??MLJ-2508D 光學掩膜版除膠清洗劑以高效、安全、環保為核心優 勢，廣泛應用于光學掩膜版、芯片、半導體器件及精密光學玻璃的表 面污染物清潔，助力客戶實現高質量生產與可持續發展目標。?
二、產品特點?
1. 綠色環保，安全無害 無丙酮、異丙醇、無強酸強堿：徹底避免傳統清洗劑中丙酮的毒 性風險，低閃點爆燃風險、以及強酸強堿對設備和人員的腐蝕性危害。 水性配方，可稀釋使用：以水為溶劑基材，可直接按比例兌水稀 釋（建議比例 1:3 至 1:5），降低使用成本，減少化學廢液排放。 低 VOC 排放：符合國際環保標準（如 RoHS、REACH、GB38508-2020）， 減少揮發性有機物對環境的污染。
?2.高效清潔，兼容性強 廣譜清潔能力：可快速溶解并清除光學表面各類頑固污染物，
?包括：?
- 粘接劑（如 UV 膠、環氧樹脂）?
- 保護膠、光刻膠殘留?
- 油污、指印、粉塵顆粒?
- 金屬離子污染物?
無損清潔：溫和配方確保不損傷掩膜版鍍膜層、光學玻璃表面及 半導體器件精密結構清洗簡單，
易漂洗，無殘留無白點無水霧現象。
快速干燥：清洗后表面易漂洗，無殘留無白點無水霧現象。干燥 速度快，提升產線效率。?
3. 經濟實用，操作便捷 稀釋使用，成本更低：通過兌水稀釋，單次使用量減少 30%-50%， 顯著降低客戶采購成本。 兼容多種工藝：適用于超聲波清洗、噴淋清洗、浸泡、手工擦拭 等多種清洗方式。 長保質期：穩定性強，儲存條件寬松（常溫避光保存），保質期 長達 12 個月。
?三、適用領域 本產品專為以下高精密場景設計：
?1.高精密光學掩膜版清潔： 清除光刻膠殘留、保護膜膠漬，確保掩膜版透光率和圖形精度。
?2. 半導體與芯片制造： 用于晶圓、封裝器件的表面污染物清洗，避免微塵影響良率。
?3. 高精密光學玻璃： 清潔鏡頭、棱鏡、濾光片等光學元件的油污和粘合劑殘留。?
4. 顯示面板行業： 適用于 OLED/LCD 面板生產中的玻璃基板清洗。
?5. 科研與實驗室： 滿足超凈環境下的精密器件清潔需求。
?四、環保性能深度解析
?1. 成分安全，全程可控 環保性認證：通過 ROHS10 項檢測認證，不含重金屬、苯類、鹵代 烴等有害物質，對人體和環境無危害。
?2. 減少廢棄物處理成本 廢液易處理：水性配方廢液可直接通過常規污水處理系統處理， 無需額外投入高成本危廢處理流程。 降低碳排放：生產過程中采用綠色合成工藝，減少能源消耗與碳 足跡。
?3. 符合國際標準 通過 RoHS 2.0、REACH（SVHC）GB38508-2020 等法規認證，滿足 歐盟及全球主流市場環保準入要求。
?五、技術參數 項目?
六、操作工藝
?1.清洗方法可采用熱浸泡處理、噴淋清洗等工藝方式。
?2.可以在 25℃至 90℃下清洗殘留光刻膠。升溫可以節省更多的時間， 具體方法如下:將含有殘留光刻膠的精密掩膜版浸入兌好純水的清洗 劑中,在 25℃至 90℃下浸泡合適的時間（5-10 分鐘以清洗干凈為準）。?
3.可根據清洗對象臟污程度來調配清洗液的濃度，用原液直接浸泡 3-10 分鐘，或者兌水 1-4 倍超聲波/兆聲波清洗。
七、服務與支持?
定制化方案：根據客戶工藝需求，提供濃度調整或配方優化服務。
技術指導：免費提供清洗工藝參數建議（如超聲波功率、清洗時間）。
樣品試用：支持小批量樣品申請，驗證清洗效果后再批量采購。
快速響應：24 小時在線技術支持，解決客戶使用中的問題。
八：質量標準： 產品符合中華人民共和國水基清洗劑標準 JB/T4323-2019； 產品符合歐盟 ROHSRoHS 2.0、REACH（SVHC）GB38508-2020 標準。
九、產品包裝、貯存和運輸： 塑料桶包裝：5Kg/桶 25Kg/桶，非危險品易于儲存和運輸；
? ? ? ? 貯存期一年，不能露天存放，防止日曬雨淋； 未使用完的清洗劑須將桶蓋擰緊，避免水分及雜質混入。
羽杰科技致力于以創新環保技術推動精密制造行業升級，我們的 光學掩膜版清洗劑不僅是清潔工具，更是客戶實現高效生產與綠色責 任的理想選擇！ 讓清潔更高效，讓制造更綠色！
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